、有機EL面板以及太陽能電池等的透明導電膜。

體化學氣相沉積法（SWP-CVD）”方法以及R2R實現的。石墨烯薄膜可以高速成膜的最大理由是將基板上的溫度保持在300℃以上，以CVD方式在低溫下保存。成膜所需時間僅在“30秒以下”（產綜研納米管應用研究中心納米物質涂層小組研究組長長谷川雅考）。原來需要在一個小時左右的時間里，將基板上的溫度保持在1000℃。

 

圖1：可量產30cm寬的石墨烯薄膜

（a）是產綜研開發的石墨烯薄膜量產用SWP-CVD裝置的概要。將內部插有天線的圓筒狀石英管排列起來，向其中加載2.45GHz的交流電壓，由此產生等離子。（b）是產綜研在2012年2月展會上展出的“石墨烯觸摸面板”。

　　適用于透明導電膜

　　作為用于多種用途的透明導電膜，石墨烯的特性非常出色。比如光透射率較高。單層石墨烯的光透射率在理論上為97.5％。由于透射率沒有波長依賴性，因此對于對太陽能電池來說非常重要的近紅外區電磁波，石墨烯具有較高的透射性。而且，針對機械彎曲的耐久性也較高。石墨烯非常薄，幾乎不會出現其他薄膜存在的光封存問題。

　　另外，石墨烯針對水蒸氣的氣體阻隔（Gas Barrier）性在理論上為10－11g/m2/日，可以滿足有機EL面板封裝所需要的10－6g/m2/日。

　　關于石墨烯薄膜的薄膜電阻值，“我們制作的產品當光透射率為87％時，薄膜電阻值為500Ω/□”（產綜研的長谷川），雖然還稍微有些大，但“以前的薄膜電阻值卻在1kΩ/□左右。今后計劃進一步降低電阻值”（長谷川）。正在考慮與導電性較高的金屬納米網片（Mesh Sheet）等組合使用的解決方案。